CWP1200/1800 卧式连续型PVD镀膜设备
CWP1200/1800 Horizontal in-line PVD Coater
- 设备特点
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- 腔室设计模块化，便于产能拓展
- 设备内多重洁净防护，维护更换便捷
- 设备性能可靠稳定，已在客户处实现多年稳定运行
- 可实现气氛隔离，兼容金属溅射和化合物反应溅射
- 可选自动化翻面配套，实现工件双面镀膜
- 技术指标
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- 基材尺寸有效宽度1100/1500/1950/ 2200mm
- 膜厚均匀性±5%
- 靶材利用率平面阴极:≥30%，动平面阴极:≥60%，旋转阴极:≥80%；
- 走速范围30-1000mm/min
