CLP1000R6-2/ZM 重稀土PVD连续镀膜设备
CLP1000R6-2/ZM Heavy rare earth PVD continuous coating equipment
- 设备特点
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- 采用卧式设计，整个操作过程自动运行
- 采用托盘支撑的工件摆放方式，可以节省装夹时间和节约人工，降低劳动强度和运行成本
- 选用新型专业定制的高利用率旋转阴极，靶材溅出率可达到85%~90%
- 旋转靶材拥有更长的使用时间，大大延长了设备的换靶周期/减少破空周期
- 良好的靶筒冷却系统使旋转阴极可以承受更高的功率密度
- 技术指标
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- 镀层厚度均匀性≤±5%
- 设备压升率（镀膜区）≤0.6Pa/h（空载、室温）
- 冷却效率20min内出料，工件表面温度≤80℃
- 靶材溅出率靶材为10mm厚时，靶材溅出率≥82%
- 阴极数量4套高利用率旋转阴极
