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半导体装备 Semiconductor

HORIC L200

卧式低压化学气相沉积系统

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HORIC L200 卧式低压化学气相沉积系统
HORIC L200 LPCVD System
HORIC L200 LPCVD系统,主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜,设备工艺性能好、产能大、可靠性高,可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分,相关模块齐全,可根据不同客户需求进行配置。
设备特点
  • 可根据客户需求配置多工艺组合的机台
  • 高可靠性、稳定性
  • 安全性能高,设备及所使用的元件符合国家和国际标准
  • 可提供先进成熟的MES系统解决方案
  • 良好的工艺技术支持
产品应用
  • 晶圆尺寸
    4、6、8 英寸
  • 适用材料
    硅、碳化硅、硅基氮化镓
  • 适用工艺
    氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、PSG、BPSG
  • 适用领域
    化合物半导体、衬底材料、科研领域
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